中信证券研报指出,光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元,ASML处于绝对领先,国内市场规模超200亿元,但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下,曝光波长逐渐缩短至13.5nm,光刻技术逐步完善成熟,但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时,美国对中国先进制程设备和技术围追堵截,光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下,制造环节先行,中信证券认为国产高端光刻机的发展有望获得推动,光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
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