消息称三星计划量产的1c DRAM使用MOR光刻胶lg...

三星正在考虑在其下一代DRAM极紫外光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂。MOR被业内认为是下一代光刻胶，会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶。三星正考虑在第6代10纳米DRAM中使用MOR，主要在六层或七层上使用EUV PR，相关产品将于今年下半年投入生产。