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福特科申请一种浮雕斜齿光栅的加工方法专利,可方便快速的生产加工浮雕斜齿光栅

2024-01-16 14:27:26
金融界
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摘要:金融界2024年1月16日消息,据国家知识产权局公告,福建福特科光电股份有限公司申请一项名为“一种浮雕斜齿光栅的加工方法“,公开号CN117406319A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本发明涉及一种浮雕斜齿光栅的加工方法。在清洗干净的晶圆衬底上旋涂高分子聚合物抗蚀剂层;对高分子聚合物抗蚀剂层进行倾斜变剂量曝光,形成与所述的晶圆衬底表面倾斜设置的光栅结构,采用PVD真空镀膜技术在带光栅结构的晶圆衬底表面上沉积第一金属膜层;去除光栅结构及附着在其上面的第一金属膜层,使晶圆衬底上仅留下间隔排列且与晶圆衬底倾斜设置的第二金属掩膜层;采用离子束刻蚀技术对位于第二金属掩膜层的间隙之间的晶圆衬底表面进行刻蚀,得到斜齿光栅结构;最后去除第二金属掩模层,即得到目标浮雕斜齿光栅。本发明通过改善金属掩膜工艺制备出倾斜的金属掩模结构,大大降低倾斜刻蚀的难度,从而可方便快速的生产加工浮雕斜齿光栅。

金融界2024年1月16日消息,据国家知识产权局公告,福建福特科光电股份有限公司申请一项名为“一种浮雕斜齿光栅的加工方法“,公开号CN117406319A,申请日期为2023年10月。

专利摘要显示,本发明涉及一种浮雕斜齿光栅的加工方法。在清洗干净的晶圆衬底上旋涂高分子聚合物抗蚀剂层;对高分子聚合物抗蚀剂层进行倾斜变剂量曝光,形成与所述的晶圆衬底表面倾斜设置的光栅结构,采用PVD真空镀膜技术在带光栅结构的晶圆衬底表面上沉积第一金属膜层;去除光栅结构及附着在其上面的第一金属膜层,使晶圆衬底上仅留下间隔排列且与晶圆衬底倾斜设置的第二金属掩膜层;采用离子束刻蚀技术对位于第二金属掩膜层的间隙之间的晶圆衬底表面进行刻蚀,得到斜齿光栅结构;最后去除第二金属掩模层,即得到目标浮雕斜齿光栅。本发明通过改善金属掩膜工艺制备出倾斜的金属掩模结构,大大降低倾斜刻蚀的难度,从而可方便快速的生产加工浮雕斜齿光栅。

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