长鑫存储取得清洗研磨垫专利，降低晶圆刮伤缺陷概率lg...

摘要：金融界2024年1月11日消息，据国家知识产权局公告，长鑫存储技术有限公司取得一项名为“一种清洗研磨垫的方法、系统、电子设备及存储介质“，授权公告号CN114012604B，申请日期为2021年10月。专利摘要显示，本申请公开了一种清洗研磨垫的方法、系统、电子设备及存储介质，其中清洗方法包括：获取研磨垫研磨晶圆的研磨片数；所述研磨片数达到预设阈值时，生成第一指令；根据所述第一指令控制机台对所述研磨垫执行清洗操作。可以实现机台自动清洗研磨垫上残留的晶边杂质，在研磨垫上的杂质被清洗后，再次对晶圆进行研磨时会减少刮伤影响，降低晶圆刮伤缺陷概率。