上海新阳取得氧化钒缓蚀含氟剥离液的应用专利，能有效去除待剥离材料且对光阻材料腐蚀性低lg...

摘要：金融界2024年1月8日消息，据国家知识产权局公告，上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种氧化钒缓蚀含氟剥离液的应用“，授权公告号CN112859552B，申请日期为2021年2月。专利摘要显示，本发明公开了一种氧化钒缓蚀含氟剥离液、其制备方法及应用。具体地，本发明公开了氧化钒缓蚀含氟剥离液在半导体器件中对待剥离材料进行剥离和清洗中的应用，其中所述氧化钒缓蚀含氟剥离液的原料包括下列组分：氟化物、烷醇胺、缓蚀剂、络合剂、直链酰胺类有机溶剂、砜类和/或亚砜有机溶剂、醇醚类有机溶剂、烷酮类有机溶剂、PO?EO?乙烯基二元胺共聚物和余量的水，所述的PO?EO?乙烯基二元胺共聚物为Tetronic 901、Tetronic 904和Tetronic 908中的一种或多种。本发明的氧化钒缓蚀含氟剥离液能有效去除待剥离材料，且对例如VOX/PI/Ni等材料的光阻材料腐蚀性低。