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华大智造取得晶片级测序流通池专利,测序流通池可实现差异表面功能化

2024-01-08 09:30:38
金融界
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摘要:金融界2024年1月8日消息,据国家知识产权局公告,深圳华大智造科技股份有限公司取得一项名为“晶片级测序流通池制造“,授权公告号CN111295733B,申请日期为2018年9月。专利摘要显示,一种用于形成测序流通池的方法包括:提供覆盖有介电层的半导体晶片;并且在所述介电层上形成图案化层。所述图案化层具有差异表面,所述差异表面包括交替的第一表面区域和第二表面区域。所述方法还可以包括:将所述盖晶片附着于所述半导体晶片以形成复合晶片结构,所述复合晶片结构包括多个流通池。然后切割所述复合晶片结构以形成多个管芯。每个管芯包括流通池。所述测序流通池可以包括:入口和出口,在所述图案化层的一部分与所述盖晶片的一部分之间的流动通道。此外,所述方法可以包括对所述测序流通池进行功能化以产生差异表面。

金融界2024年1月8日消息,据国家知识产权局公告,深圳华大智造科技股份有限公司取得一项名为“晶片级测序流通池制造“,授权公告号CN111295733B,申请日期为2018年9月。

专利摘要显示,一种用于形成测序流通池的方法包括:提供覆盖有介电层的半导体晶片;并且在所述介电层上形成图案化层。所述图案化层具有差异表面,所述差异表面包括交替的第一表面区域和第二表面区域。所述方法还可以包括:将所述盖晶片附着于所述半导体晶片以形成复合晶片结构,所述复合晶片结构包括多个流通池。然后切割所述复合晶片结构以形成多个管芯。每个管芯包括流通池。所述测序流通池可以包括:入口和出口,在所述图案化层的一部分与所述盖晶片的一部分之间的流动通道。此外,所述方法可以包括对所述测序流通池进行功能化以产生差异表面。

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