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光刻机(胶)概念2日主力净流出9377.71万元，亚威股份、华懋科技居前

2024-01-02 15:46:02
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摘要：1月2日，光刻机(胶)概念下跌0.57%，今日主力资金流出9377.71万元，概念股18只上涨，41只下跌。主力资金净流出居前的分别为亚威股份（5649.22万元）、华懋科技（3240.77万元）、飞凯材料（2953.37万元）、晶方科技（2196.07万元）、雅克科技（2154.64万元）。

1月2日，光刻机(胶)概念下跌0.57%，今日主力资金流出9377.71万元，概念股18只上涨，41只下跌。

主力资金净流出居前的分别为亚威股份（5649.22万元）、华懋科技（3240.77万元）、飞凯材料（2953.37万元）、晶方科技（2196.07万元）、雅克科技（2154.64万元）。

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